功能模块

GW5_CNR

低照色噪、色块、chroma blotches、色彩边缘保护、gain 分段降色噪

wiki/modules/GW5_CNR.md

GW5_CNR

GW5 Color Noise Reduction(CNR)模块整理,用于记录 GEO GW5 ISP 色噪抑制、YUV chroma mask 调试和 gain 相关强度调制。

页面属性

  • 类型:平台模块
  • 厂家:GEO Semiconductor
  • 平台:GW5
  • 模块:Color Noise Reduction / CNR
  • 场景:低照色噪、色块、chroma blotches、色彩边缘保护、gain 分段降色噪
  • 适用范围:指定平台

模块作用

  • CNR 用于抑制 YUV 空间中的 chroma noise,典型表现是错误颜色斑块或彩色噪声团。
  • 处理方式是将每个像素 chromaticity 与估计出的局部 chroma mean 做 alpha blending。
  • CNR 主要在 Phase Two 调主参数,在 Phase Three 根据 gain 补 uv_delta12_slope_lut

前置条件

关键参数

全局参数

  • color_noise_reduction.enable:CNR 开关。
  • color_noise_reduction.[u/v]_center:U / V 平面中心点。
  • color_noise_reduction.effective_kernel:水平 Gaussian filter 长度。
  • color_noise_reduction.global_offsetuv_seg1 mask 最大值。
  • color_noise_reduction.global_slopeuv_seg1 mask 最小值。
  • color_noise_reduction.debug:选择可视化 mask。

Mask 参数

  • uv_seg1_offset / uv_seg1_slope:区分高饱和与低饱和区域。
  • [u/v]mean[1/2]_offset / [u/v]mean[1/2]_slope:局部 chroma mean 的边缘保护。
  • uv_var[1/2]_offset / uv_var[1/2]_slope / uv_var[1/2]_scale:像素 chroma 与局部 mean 差异。
  • uv_delta[1/2]_offset / uv_delta[1/2]_slope:决定哪些像素被修正以及修正强度。
  • delta_factor:color bleeding 修正。

Debug mask

  • debug = 2uv_seg1,像素饱和度 mask。
  • debug = 4/5/6/7umean1/vmean1/umean2/vmean2,局部 chromaticity mean。
  • debug = 8/9uv_var1/uv_var2,像素 chroma 与 local mean 差异。
  • debug = 12/13uv_delta1/uv_delta2,chroma blending alpha。

调试流程

  1. 使用含 ColorChecker 和多种纹理的测试场景,在低 D65 照度下调试,例如 10 lux,使色噪容易被观察。
  2. 先调 uv_seg1,让 ColorChecker 部分彩色块变暗,同时中性区域的色噪不在 mask 中明显可见。
  3. [u/v]mean[1/2] mask,目标是去掉色噪斑块,同时保留 ColorChecker 色块边缘。
  4. uv_var 通常按推荐初值设置,主要确认 mask 表现是否合理。
  5. uv_delta1/2_offset,让 ColorChecker 仅部分边缘显示在 mask 中。
  6. 回到正常图像输出,若出现邻近区域染色或去饱和,增加 delta_factor 抑制 color bleeding。
  7. uv_delta1/2_slope 从 0 开始增加,直到色噪开始消失;过高会在色块边缘引入 false color。
  8. 将当前 gain 下调好的 slope 写入 color_noise_reduction.uv_delta12_slope_lut
  9. Phase Three 在不同 gain / lux 下重复第 7 步,补齐全 gain 范围 LUT。

调试风险

  • CNR 过强会造成 color bleeding、局部去饱和或边缘假色。
  • 不能只看色噪是否消失,还要看 ColorChecker 边缘、纹理和彩色细节是否被污染。
  • CNR 应在 SNR、Demosaic、GE 等模块稳定后调,否则 mask 依据会变化。

相关页面

来源